YWafer GS4シリーズ最新型のPLマッピング装置をシャープ株式会社様へ納入いたしました。

精巧な光学設計を駆使し、使用者のニーズに合わせた仕様設定のみならず、窒化ガリウム系とその他のウェーハ測定・マッピングにおいて最適な方法を提供しています。従来の装置と同様、高速で正確かつ再現性の高い測定を幅広い波長範囲と素材で実現。100x100mmまでのウェーハサイズに対応しており、装置内蔵型PLリファレンス技術を用いて最高レベルの測定における安定性と再現性を可能にしています。

また、拡張機能も充実しています。GS4には最大3つまでの励起光源を追加でき、透過や反射率測定機能、膜厚および反り測定機能にも対応できる多彩な装置です。

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