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最新ニュースとお知らせ
2015.09.25: 装置採用（東芝研究開発センター 様）
測定領域200mmまでの蛍光ウェーハマッピング装置（YWafer RD8構成）が東芝研究開発センター様に導入されました。
弊社の蛍光体マッピング装置（小型機YB3やYB4を含む）では実用的な蛍光光源状態を用いた構成を起用して、ウェーハ下方からの青色光照射による透過光と、照射時に吸収された部分から発光する黄色光をもとに、蛍光体の特性データの取得とマッピングを実現しています。 （測定方法についての詳細はこちら）
これら装置は、ウェーハ板厚マッピングや幾つかの角度依存によるCIE表色系対応を標準構成に含み、最高水準の再現性が特長です。取り替え可能な励起光源もオプションで追加できます。ウェーハアダプタの特注設計やその他の個別設計もRD8の中核機能を妥協することなく実装できます。
本製品の詳細については、お気軽にお問い合わせください。
2015.07.01: 装置採用（シャープ株式会社様）
YWafer GS4シリーズ最新型のPLマッピング装置をシャープ株式会社様へ納入いたしました。
精巧な光学設計を駆使し、使用者のニーズに合わせた仕様設定のみならず、窒化ガリウム系とその他のウェーハ測定・マッピングにおいて最適な方法を提供しています。従来の装置と同様、高速で正確かつ再現性の高い測定を幅広い波長範囲と素材で実現。100x100mmまでのウェーハサイズに対応しており、装置内蔵型PLリファレンス技術を用いて最高レベルの測定における安定性と再現性を可能にしています。
また、拡張機能も充実しています。GS4には最大3つまでの励起光源を追加でき、透過や反射率測定機能、膜厚および反り測定機能にも対応できる多彩な装置です。
マッピング装置の詳細については こちらまで！
2015.04.15: 装置採用（株式会社 豊田中央研究所 様）
最新型ウェーハ分布測定装置YWafer-RD8が豊田中央研究所 様に納入されました。
励起条件の自動制御（スポットサイズやNDフィルターによる励起光の減衰）のみならず、冷却CCD型分光とフォトダイオード法の両方を用いた超高感度検出を搭載した機能により、これまでにはない広範囲の強度にわたって微弱な不純物発光を測ることができます。
豊田中央研究所 様の研究者によると、「RD8により、5桁以上の励起強度範囲における発光を高感度に取得でき、かつウェーハのマッピング・励起強度可変を完全自動で行えるのでとても便利だ」そうです。
広範囲にわたる励起条件を変えることでバンドエッジ発光と不純物発光を比べることができることで、SiCやGaN系ハイパワー半導体素子の信頼性について重要な情報が得られ、結晶成長の質を数値化することができます。
YWafer-RD８は今までのGSやYB型の製品以上の性能と速さを持ち、最大200 x 200mm または 8インチウェーハの面積に対応した多機能マッピング装置です。
2014.02.25: 装置採用（国内その場観察）
YGM-CRV-1Dその場観察装置
極度反り測定用のYGrowthMonitor (YGM-CRV)カスタム仕様版が国内メーカーへ納入されました。この製品シリーズは結晶成長の課題：ストレス管理、温度制御、再現性などの解決となるように様々なニーズに合わせています。
2013.12.01: 装置採用（上海LEDメーカー）
LED生産用の全自動ウェーハ分布測定装置 (YWafer Mapper GS4-WL)が上海で立ち上がりました。高速PL、成膜厚、ウェーハそりなどをすべて同時測定可能になっている最新技術を利用して発光ダイオードの大量生産に利用される予定です。
- 徳島県徳島市東沖洲1丁目3－4
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